PVD真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上形成薄膜的一種表面處理過(guò)程。與傳統化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點(diǎn)：如對環(huán)境無(wú)污染，是綠色環(huán)保工藝；對操作者無(wú)傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻。真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜(包括電弧蒸發(fā)、電子蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù))、濺射鍍膜(包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù))，這些方法統稱(chēng)物理氣相沉積(PhysicalVaporDepoition)，簡(jiǎn)稱(chēng)為PVD。

電鍍不良在不同性質(zhì)的產(chǎn)品中也有不同的影響，比如裝飾性外觀(guān)缺陷會(huì )導致產(chǎn)品不能像期望的那樣外觀(guān)完好，但它不會(huì )造成功能失效；而功能性表面缺陷是指產(chǎn)品構件的基材在產(chǎn)品使用過(guò)程中被腐蝕，這種缺陷是不允許在任何已經(jīng)表面處理完畢的零件存在的。真空鍍鈦技術(shù)能提高零件的抗磨耗性。下降外表磨擦系數，滑動(dòng)摩擦阻力更小。沒(méi)有對人體有害的元素和物質(zhì)。環(huán)保無(wú)污染?？稍?00℃以下的低溫涂層，保證零件不變形，硬度不下降等優(yōu)勢。

氮化鈦特性：典型、通用的耐磨涂層，細微納米級顆粒的涂層顯微結構兼備高韌性。高硬度，耐高溫、強抗腐蝕性，此鍍鈦加工涂層的工作溫度在350度以?xún)刃Ч?。在鍍鈦生產(chǎn)中，由于各種原因，導致各種有害雜質(zhì)進(jìn)入鍍鈦液。雜質(zhì)的種類(lèi)繁多，大致有金屬雜質(zhì)、金屬氧化物、非金屬雜質(zhì)和種種不溶性懸浮物、有機雜質(zhì)等。當一種或幾種有害雜質(zhì)積累到一定程度時(shí)，就會(huì )影響鍍液性能和鍍層質(zhì)量?；蛘咴陔s質(zhì)積累到有可能影響鍍鈦層質(zhì)量之前，凈化處理鍍鈦液，以保證鍍鈦藥液的穩定性。